Daftar Isi: Studi Pengaruh Variasi Laju Aliran Gas Argon Pada Sistem Plasma Sputtering (Physical Vapor Deposition) Terhadap Pembentukan Lapisan Tipis Karbon Di Atas Substrat Kaca

Daftar Isi:

Telah dilakukan deposisi lapisan tipis karbon di atas substrat dengan teknik sputtering. Bahan target yang dideposisi adalah karbon berbahan dasar tempurung kelapa diatas substrat kaca. Karbon dideposisi dengan mengalirkan gas argon pada variasi laju alir 25 ml/menit, 50 ml/menit, 75 ml/menit dan diberikan daya 100 watt frekuensi rendah selama 3 jam. Komposisi dan permukaan lapisan karbon diobservasi dengan FTIR dan SEM-EDX. Hasil pengamatan plasma menunjukkan bahwa laju alir gas argon yang semakin besar menghasilkan plasma yang semakin terang. Karakterisasi pada FTIR menunjukkan bahwa intensitas absorbansi karbon (C=C) yang teridentifikasi semakin menurun dengan meningkatnya laju alir gas argon. Hal tersebut dikarenakan semakin banyak Ion bombardment yang tidak hanya menumbuk bahan target (karbon), tetapi juga menumbuk substrat. Karakterisasi SEM-EDX menunjukkan bahwa hasil deposisi masih berupa butir pulau (island grain). Hal tersebut dikarenakan hasil morfologi pada SEM dan komposisi pada EDX tidak merata