Daftar Isi: Studi Penumbuhan Lapisan Tipis Karbon Dengan Metode Plasma Chemical Vapor Deposition Berdasarkan Spektrum Inframerah

Daftar Isi:

Penumbuhan lapisan tipis dengan metode Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD), telah berhasil dibuat dari bahan kaca pirex desikator sebagai reaktor plasma. Bahan karbon yang digunakan adalah blue gaz dan gas argon sebagai carrier gas. Pada prinsipnya, teknik Plasma CVD adalah mengkombinasikan 2 gas yaitu blue gaz dan argon yang menyebabkan gas tersebut terionisasi dan bereaksi kedalam atom-atom permukaan substrat. Pada penelitian ini, plasma telah berhasil dibangkitkan dengan daya 100 W digunakan elektroda plat, sedangkan pada daya 150 dan 200 W elektroda yang digunakan berbentuk silinder. Untuk pembangkitan plasma digunakan generator AC berfrekuensi 40 kHz. Tujuan dari penelitian ini untuk mengetahui pengaruh metode plasma CVD terhadap penumbuhan lapisan karbon pada daya 100,150,200 W. Jenis ikatan lapisan karbon yang telah dideposisi dikarakterisasi menggunakan Fourier Transform Infrared (FTIR). Berdasarkan hasil yang diperoleh pada daya 150 W dan 200 W mengggunakan elektroda silinder, dihasilkan jenis ikatan dengan nilai absorbansi tertinggi yaitu gugus fungsi C=C. Sedangkan untuk daya 100 W, dengan elektroda berbentuk plat dihasilkan jenis ikatan dengan nilai absorbansi tertinggi C-H.