Cover Image

Studi Penumbuhan Lapisan Tipis Karbon Dengan Metode Plasma Chemical Vapor Deposition Berdasarkan Spektrum Inframerah

Main Author: Arinda, PutriSurya
Format: Thesis NonPeerReviewed
Terbitan: , 2017
Subjects:
530 Physics
Online Access: http://repository.ub.ac.id/155185/
ctrlnum 155185
fullrecord <?xml version="1.0"?> <dc schemaLocation="http://www.openarchives.org/OAI/2.0/oai_dc/ http://www.openarchives.org/OAI/2.0/oai_dc.xsd"><relation>http://repository.ub.ac.id/155185/</relation><title>Studi Penumbuhan Lapisan Tipis Karbon Dengan Metode Plasma Chemical Vapor Deposition Berdasarkan Spektrum Inframerah</title><creator>Arinda, PutriSurya</creator><subject>530 Physics</subject><description>Penumbuhan lapisan tipis dengan metode Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD), telah berhasil dibuat dari bahan kaca pirex desikator sebagai reaktor plasma. Bahan karbon yang digunakan adalah blue gaz dan gas argon sebagai carrier gas. Pada prinsipnya, teknik Plasma CVD adalah mengkombinasikan 2 gas yaitu blue gaz dan argon yang menyebabkan gas tersebut terionisasi dan bereaksi kedalam atom-atom permukaan substrat. Pada penelitian ini, plasma telah berhasil dibangkitkan dengan daya 100 W digunakan elektroda plat, sedangkan pada daya 150 dan 200 W elektroda yang digunakan berbentuk silinder. Untuk pembangkitan plasma digunakan generator AC berfrekuensi 40 kHz. Tujuan dari penelitian ini untuk mengetahui pengaruh metode plasma CVD terhadap penumbuhan lapisan karbon pada daya 100,150,200 W. Jenis ikatan lapisan karbon yang telah dideposisi dikarakterisasi menggunakan Fourier Transform Infrared (FTIR). Berdasarkan hasil yang diperoleh pada daya 150 W dan 200 W mengggunakan elektroda silinder, dihasilkan jenis ikatan dengan nilai absorbansi tertinggi yaitu gugus fungsi C=C. Sedangkan untuk daya 100 W, dengan elektroda berbentuk plat dihasilkan jenis ikatan dengan nilai absorbansi tertinggi C-H.</description><date>2017-01-24</date><type>Thesis:Thesis</type><type>PeerReview:NonPeerReviewed</type><identifier> Arinda, PutriSurya (2017) Studi Penumbuhan Lapisan Tipis Karbon Dengan Metode Plasma Chemical Vapor Deposition Berdasarkan Spektrum Inframerah. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya. </identifier><relation>SKR/MIPA/2017/143/051701766</relation><recordID>155185</recordID></dc>
format Thesis:Thesis
Thesis
PeerReview:NonPeerReviewed
PeerReview
author Arinda, PutriSurya
title Studi Penumbuhan Lapisan Tipis Karbon Dengan Metode Plasma Chemical Vapor Deposition Berdasarkan Spektrum Inframerah
publishDate 2017
topic 530 Physics
url http://repository.ub.ac.id/155185/
contents Penumbuhan lapisan tipis dengan metode Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD), telah berhasil dibuat dari bahan kaca pirex desikator sebagai reaktor plasma. Bahan karbon yang digunakan adalah blue gaz dan gas argon sebagai carrier gas. Pada prinsipnya, teknik Plasma CVD adalah mengkombinasikan 2 gas yaitu blue gaz dan argon yang menyebabkan gas tersebut terionisasi dan bereaksi kedalam atom-atom permukaan substrat. Pada penelitian ini, plasma telah berhasil dibangkitkan dengan daya 100 W digunakan elektroda plat, sedangkan pada daya 150 dan 200 W elektroda yang digunakan berbentuk silinder. Untuk pembangkitan plasma digunakan generator AC berfrekuensi 40 kHz. Tujuan dari penelitian ini untuk mengetahui pengaruh metode plasma CVD terhadap penumbuhan lapisan karbon pada daya 100,150,200 W. Jenis ikatan lapisan karbon yang telah dideposisi dikarakterisasi menggunakan Fourier Transform Infrared (FTIR). Berdasarkan hasil yang diperoleh pada daya 150 W dan 200 W mengggunakan elektroda silinder, dihasilkan jenis ikatan dengan nilai absorbansi tertinggi yaitu gugus fungsi C=C. Sedangkan untuk daya 100 W, dengan elektroda berbentuk plat dihasilkan jenis ikatan dengan nilai absorbansi tertinggi C-H.
id IOS4666.155185
institution Universitas Brawijaya
affiliation mill.onesearch.id
fkp2tn.onesearch.id
institution_id 30
institution_type library:university
library
library Perpustakaan Universitas Brawijaya
library_id 480
collection Repository Universitas Brawijaya
repository_id 4666
subject_area Indonesian Language Collection/Kumpulan Karya Umum dalam Bahasa Indonesia*
city MALANG
province JAWA TIMUR
shared_to_ipusnas_str 1
repoId IOS4666
first_indexed 2021-10-27T08:55:27Z
last_indexed 2021-10-28T07:41:21Z
recordtype dc
_version_ 1751454410756587520
score 17.538404

Lihat Juga