Daftar Isi: Studi Pengaruh Hollow Cathode Pada Sistem Plasma Sputtering Terhadap Penumbuhan Lapisan Tipis Karbon (C) Di Atas Substrat Kaca Dengan Bahan Target Serbuk Tempurung Kelapa

Daftar Isi:

Telah dilakukan penelitian tentang pembuatan lapisan tipis karbon di atas substrat kaca dengan pemberian hollow cathode (katoda berongga) pada sistem plasma sputtering. Bahan target serbuk karbon yang digunakan adalah hasil karbonisasi tempurung kelapa dengan metode pirolisis pada suhu 650oC selama 3.5 jam dan proses sputtering menggunakan gas argon sebagai sumber plasma. Tujuan penelitian ini adalah mempelajari pengaruh variasi dari tinggi rongga (hollow cathode) pada sistem plasma sputtering serta mengetahui komposisi dan morfologi permukaan lapisan tipis karbon yang terdeposisi dengan menggunakan FTIR dan SEM-EDX. Dalam proses plasma sputtering bahan target karbon diletakkan pada bagian katoda berongga dan dilakukan variasi tinggi rongga tanpa katoda berongga, 4, 6, dan 8 mm. Pemberian katoda berongga dapat meningkatkan deposisi dari karbon. Semakin kecil ketinggian rongga dari katoda berongga menghasilkan deposisi karbon lebih banyak. Hasil karakterisasi FTIR pada deposisi karbon teridentifikasi jenis ikatan atom diantaranya C-H Stretching, C≡C, C=O, C=C, C-N, dan C-H. Hasil karakterisasi SEM-EDX menunjukkan morfologi partikel lapisan tipis karbon belum merata, yang membentuk lapisan berupa pulau-pulau (islands).