Studi Pengaruh Parameter Bias-Dc Pada Plasma Oksigen Terhadap Tingkat Kebasahan (Wettability) Lapisan Polistirena
| Main Author: | Arinda, Putri Surya |
|---|---|
| Format: | Thesis NonPeerReviewed Book |
| Bahasa: | eng |
| Terbitan: |
, 2020
|
| Subjects: | |
| Online Access: |
http://repository.ub.ac.id/183695/1/0420090015%20%20-%20Putri%20Surya%20Arinda.pdf http://repository.ub.ac.id/183695/ |
Daftar Isi:
- Untuk meningkatkan performa sensor QCM, QCM dimodifikasi pada bagian kedua elektroda dengan melapisi bahan polimer seperti polystyrene (PS). Salah satu metode efektif untuk modifikasi permukaan PS menggunakan treatment plasma oksigen. Plasma oksigen mampu meningkatkan wettability permukaan PS. Parameter keberhasilan untuk meningkatkan wettability permukaan yaitu tegangan Bias-DC. Tegangan Bias DC plasma oksigen mempengaruhi karakter spesies plasma yang terbentuk. Spesies reaktif oksigen berinteraksi dengan permukaan material. Interaksi tersebut dapat dibuktikan dengan hasil pengujian menggunakan OES, terhadapat kehadiran spesies CO pada panjang gelombang 311 nm. Kehadiran spesies CO mengindikasikan bahwa terjadi reaksi plasma - etching sputtering. Proses sputtering mengakibatkan atom karbon terlepas dan bereaksi dengan spesies reaktif didalam plasma sehingga menghasilkan reaksi oksidasi. Hasil pengujian wettability permukaan menunjukkan karakter hidrofilik. Hal ini membuktikan kehadiran CO yang terdeteksi pada OES mempengaruhi karakter permukaan menjadi hidrofilik. Wettability permukaan hidrofilik dipengaruhi oleh struktur mikro/kekasaran dan gugus fungsi kimia polar. Pengujian struktur mikro dilakukan menggunakan Mikroskop Optik, TMS, dan SEM. Hasil menunjukkan bahwa pemberian tegangan Bias DC plasma oksigen menyebabkan terbentuknya pola pada permukaan polistirena. Pengujian menggunakan TMS menunjukkan semakin tinggi pemberian tegangan Bias DC permukaan semakin kasar. Ketika dilakukan pengujian menggunakan SEM melalui komposisi EDS, menunjukkan kekasaran tersebut dikarenakan proses sputtering. Proses etching secara sputtering bukan hanya menyebabkan atom karbon terlepas akan tetapi juga menyebabkan bagian elektroda QCM terlepas/tersputter. Atom metal pada QCM yang terlepas cenderung membentuk pola microsphere pengaruh ion bombardment.