Cover Image

Studi Pengaruh Tekanan Dalam Rancang Bangun Sistem Plasma Chemical Vapor Deposition Terhadap Mikrostruktur Lapisan Karbon Dengan Menganalisa Spektrum Hasil Ftir

Main Author: Mukarromah, UllyMambaatul
Format: Thesis NonPeerReviewed
Terbitan: , 2017
Subjects:
530 Physics
Online Access: http://repository.ub.ac.id/155203/
ctrlnum 155203
fullrecord <?xml version="1.0"?> <dc schemaLocation="http://www.openarchives.org/OAI/2.0/oai_dc/ http://www.openarchives.org/OAI/2.0/oai_dc.xsd"><relation>http://repository.ub.ac.id/155203/</relation><title>Studi Pengaruh Tekanan Dalam Rancang Bangun Sistem Plasma Chemical Vapor Deposition Terhadap Mikrostruktur Lapisan Karbon Dengan Menganalisa Spektrum Hasil Ftir</title><creator>Mukarromah, UllyMambaatul</creator><subject>530 Physics</subject><description> Telah dibuat desain dan rancang bangun sistem Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD) untuk deposisi lapisan tipis karbon. Komponen sistem pembangkit plasma terdiri dari reaktor plasma, generator, rotary pump, sumber gas dan sensor tekanan. Plasma dibangkitkan dengan daya sebesar 160 W menggunakan generator AC berfrekuensi 40 kHz dengan menggunakan Ar/blue gaz. Tujuan penelitian ini adalah untuk mendesain dan membuat sistem plasma CVD serta untuk mempelajari pengaruh tekanan chamber reaktor plasma terhadap mikrostruktur lapisan karbon. Tekanan chamber reaktor yang digunakan untuk proses deposisi sebesar 4,39 Torr, 4,89 Torr dan 5,29 Torr dimana parameter lainnya dibuat tetap. Lapisan karbon yang dihasilkan dikarakterisasi dengan menggunakan FTIR. Hasil penelitian menunjukkan bahwa tekanan chamber mempengaruhi pembentukan plasma dan intensitas absorbansi lapisan karbon hasil deposisi. Semakin tinggi tekanan chamber, intensitas absorbansi lapisan karbon semakin kecil. Pada tekanan 4,39 Torr, intensitas absorbansi tertinggi dimiliki oleh ikatan C-H sedangkan pada tekanan 4,89 Torr dimiliki oleh ikatan C=C &#xD; </description><date>2017-01-25</date><type>Thesis:Thesis</type><type>PeerReview:NonPeerReviewed</type><identifier> Mukarromah, UllyMambaatul (2017) Studi Pengaruh Tekanan Dalam Rancang Bangun Sistem Plasma Chemical Vapor Deposition Terhadap Mikrostruktur Lapisan Karbon Dengan Menganalisa Spektrum Hasil Ftir. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya. </identifier><relation>SKR/MIPA/2017/159/051701784</relation><recordID>155203</recordID></dc>
format Thesis:Thesis
Thesis
PeerReview:NonPeerReviewed
PeerReview
author Mukarromah, UllyMambaatul
title Studi Pengaruh Tekanan Dalam Rancang Bangun Sistem Plasma Chemical Vapor Deposition Terhadap Mikrostruktur Lapisan Karbon Dengan Menganalisa Spektrum Hasil Ftir
publishDate 2017
topic 530 Physics
url http://repository.ub.ac.id/155203/
contents Telah dibuat desain dan rancang bangun sistem Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD) untuk deposisi lapisan tipis karbon. Komponen sistem pembangkit plasma terdiri dari reaktor plasma, generator, rotary pump, sumber gas dan sensor tekanan. Plasma dibangkitkan dengan daya sebesar 160 W menggunakan generator AC berfrekuensi 40 kHz dengan menggunakan Ar/blue gaz. Tujuan penelitian ini adalah untuk mendesain dan membuat sistem plasma CVD serta untuk mempelajari pengaruh tekanan chamber reaktor plasma terhadap mikrostruktur lapisan karbon. Tekanan chamber reaktor yang digunakan untuk proses deposisi sebesar 4,39 Torr, 4,89 Torr dan 5,29 Torr dimana parameter lainnya dibuat tetap. Lapisan karbon yang dihasilkan dikarakterisasi dengan menggunakan FTIR. Hasil penelitian menunjukkan bahwa tekanan chamber mempengaruhi pembentukan plasma dan intensitas absorbansi lapisan karbon hasil deposisi. Semakin tinggi tekanan chamber, intensitas absorbansi lapisan karbon semakin kecil. Pada tekanan 4,39 Torr, intensitas absorbansi tertinggi dimiliki oleh ikatan C-H sedangkan pada tekanan 4,89 Torr dimiliki oleh ikatan C=C
id IOS4666.155203
institution Universitas Brawijaya
affiliation mill.onesearch.id
fkp2tn.onesearch.id
institution_id 30
institution_type library:university
library
library Perpustakaan Universitas Brawijaya
library_id 480
collection Repository Universitas Brawijaya
repository_id 4666
subject_area Indonesian Language Collection/Kumpulan Karya Umum dalam Bahasa Indonesia*
city MALANG
province JAWA TIMUR
shared_to_ipusnas_str 1
repoId IOS4666
first_indexed 2021-10-27T08:55:27Z
last_indexed 2021-10-28T07:41:21Z
recordtype dc
_version_ 1751454410698915840
score 17.538404

Lihat Juga