Studi Pengaruh Tekanan Dalam Reaktor Plasma Terhadap Laju Etching Sio2 Sebagai Sensor Qcm Dengan Metode Plasma Etching Menggunakan Gas Ch2fcf3
Main Author: | Habibi, MSofyan |
---|---|
Format: | Thesis NonPeerReviewed |
Terbitan: |
, 2016
|
Subjects: | |
Online Access: |
http://repository.ub.ac.id/155037/ |
Internet
http://repository.ub.ac.id/155037/Lokasi
Koleksi | Repository Universitas Brawijaya |
---|---|
Gedung | Perpustakaan Universitas Brawijaya |
Institusi | Universitas Brawijaya |
Kota | MALANG |
Provinsi | JAWA TIMUR |
Kontak | Butuh informasi lebih lanjut? Hubungi pustakawan institusi ini. |