Skip to content
  • Tentang IOS
  • Join Us
  • Hubungi Kami
  • Organisasi Mitra
  • Akun Anda
  • Keluar
  • Masuk
  • Bahasa Indonesia
    • Bahasa Indonesia
    • English
Lanjutan
  • Distribusi keterbalan dan dist...
  • Preview
  • Koleksi Nasional
  • Sitasi Cantuman
  • Kirim via Email
  • Ekspor Cantuman
    • Export to RefWorks
    • Export to EndNoteWeb
    • Export to EndNote
  • Favorit
Cover Image

Distribusi keterbalan dan distribusi resistivitas listrik lapisan tipis Indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan metode sputtering

Tersimpan di:
Main Authors: Antonius Suban Hali, author, Add author: Na, Peng Bo, supervisor
Format: Masters Bachelors
Terbitan: Universitas Indonesia , 2008
Subjects:
Sputtering (Physics) > Measurement > Data processing
Online Access: https://lib.ui.ac.id/detail?id=20236070
  • Lokasi
  • Deskripsi
  • Preview
  • Tampilan Petugas

Lihat Juga

  • Sifat Listrik Lapisan Tipis Indium Tin Oksida Yang Dibuat Dengan Proses Dc Magnetron Sputtering
    oleh: Imam Prasaja, author, et al.
    Terbitan: (1999)
  • Resistansi lapisan tipis indium tin oksida yang dibuat dengan proses sputtering dengan variasi tekanan parsial oksigen
    oleh: Lee Chan Uk, author, et al.
    Terbitan: (1997)
  • Sifat listrik lapisan tipis indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan DC magnetron sputtering dan evaporasi berkas elektron
    Terbitan: (2000)
  • Pengaruh tekanan parsial oksigen terhadap konduktivitas listrik pada lapisan tipis In203 : Sn yang dibuat secara Dc Magnetron sputtering
    oleh: Muslimin, author, et al.
    Terbitan: (1998)
  • Sifat listrik lapisan tipis indium tin oksida yang dibuat dengan proses DC magnetron sputtering
    oleh: Imam Prasaja
    Terbitan: (1999)

Opsi Pencarian

  • Sejarah Pencarian
  • Pencarian Lanjut

Temukan Lebih Banyak

  • Penelusuran Katalog
  • Penelusuran Alfabetis

Butuh Bantuan?

  • Tips Pencarian
  • Admin
  • Hubungi Kami
© 2025 Perpustakaan Nasional Republik Indonesia
Loading...