Skip to content
Toggle navigation
Tentang IOS
Join Us
Hubungi Kami
Organisasi Mitra
Akun Anda
Keluar
Masuk
Bahasa Indonesia
Bahasa Indonesia
English
Semua Kolom
Judul
Pengarang
Subject
Call Number
ISBN/ISSN
Tag
Cari
Lanjutan
Cari
Distribusi ketebalan lapisan t...
Preview
Koleksi Nasional
Sitasi Cantuman
Kirim via Email
Ekspor Cantuman
Export to RefWorks
Export to EndNoteWeb
Export to EndNote
Favorit
Distribusi ketebalan lapisan tipis indium tin oxide (ITO) dengan proses DC magnetron sputtering
Tersimpan di:
Format:
Bachelors
Terbitan:
Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Indonesia
,
2000
Subjects:
Composite materials
Lokasi
Deskripsi
Preview
Tampilan Petugas
Lihat Juga
Sifat listrik lapisan tipis indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan DC magnetron sputtering dan evaporasi berkas elektron
Terbitan: (2000)
Mengukur sebaran ketebalan lapisan indium Tin Oksida (ITO) yang dibuat dengan proses DC Magnetron Sputtering
Terbitan: (2004)
Sifat Listrik Lapisan Tipis Indium Tin Oksida Yang Dibuat Dengan Proses Dc Magnetron Sputtering
oleh: Imam Prasaja, author, et al.
Terbitan: (1999)
Sifat listrik lapisan tipis indium tin oksida yang dibuat dengan proses DC magnetron sputtering
oleh: Imam Prasaja
Terbitan: (1999)
Distribusi keterbalan dan distribusi resistivitas listrik lapisan tipis Indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan metode sputtering
oleh: Antonius Suban Hali, author, et al.
Terbitan: (2008)
×
Loading...
