APA Citation

MiftakhulHuda. (2008). Pengaruh Rapat Arus (Current Density) terhadap Tebal Deposit Nikel dalam Proses Electroplating Pada Substrate Poly-vinyl Chloride.

Chicago Style Citation

MiftakhulHuda. Pengaruh Rapat Arus (Current Density) Terhadap Tebal Deposit Nikel Dalam Proses Electroplating Pada Substrate Poly-vinyl Chloride. 2008.

MLA Citation

MiftakhulHuda. Pengaruh Rapat Arus (Current Density) Terhadap Tebal Deposit Nikel Dalam Proses Electroplating Pada Substrate Poly-vinyl Chloride. 2008.

Warning: These citations may not always be 100% accurate.