Indonesia OneSearch
Gravitasi
  • Cari
  • PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILIK...
  • Lokasi
Cover Image

PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILIKON MIKROKRISTAL TERHIDROGENASI DENGAN TEKNIK HWC-VHF-PECVD

Tersimpan di:
Main Authors: Usman, Ida; Jurusan Fisika FMIPA, Universitas Haluoleo, Kendari Jl. H.E.A. Mokodompit, Anduonohu, Kendari, Sulawesi Tenggara 93232, Ismail, Darwin; Jurusan Fisika FMIPA, Universitas Haluoleo, Kendari Jl. H.E.A. Mokodompit, Anduonohu, Kendari, Sulawesi Tenggara 93232, Sutanto, Heri; Jurusan Fisika FMIPA, Universitas Diponegoro Semarang Jl. Prof. Sudharto, SH, Tembalang, Semarang, Winata, Toto; Program Studi Fisika FMIPA, Institut Teknologi Bandung Jl. Ganesha 10, Bandung, Jawa Barat, 40132
Format: Article info application/pdf eJournal
Bahasa: eng
Terbitan: Dept. of Chemical Engineering, Diponegoro University , 2012
Subjects:
Chemical Engineering
butir kristalin
teknik HWC-VHF-PECVD
c-Si:H
Online Access: http://ejournal.undip.ac.id/index.php/reaktor/article/view/1555
http://ejournal.undip.ac.id/index.php/reaktor/article/view/1555/1311
  • Lokasi
  • Deskripsi
  • Daftar Isi
  • Preview
  • Tampilan Petugas

Internet

http://ejournal.undip.ac.id/index.php/reaktor/article/view/1555
http://ejournal.undip.ac.id/index.php/reaktor/article/view/1555/1311

Lokasi

Koleksi REAKTOR
Gedung Perpustakaan Universitas Diponegoro
Institusi Universitas Diponegoro
Kota SEMARANG
Provinsi JAWA TENGAH
Kontak Butuh informasi lebih lanjut? Hubungi pustakawan institusi ini.

Lihat Juga

  • Optimasi Parameter Tekanan Deposisi untuk Penumbuhan Lapisan Tipis Mikrokristal Silikon dengan Metode HWC PECVD
    oleh: Amiruddin Supu; Program Studi Fisika, Jurusan Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, FKIP, Universitas Nusa Cendana, et al.
    Terbitan: (2009)
  • Analisis Sifat-sifat Optoelektronik Lapisan Tipis Silikon Amorf terhidrogenasi yang ditumbuhkan dengan Teknik VHF-PECVD pada Variasi Daya RF
    oleh: Ida Usman; Jurusan Fisika FMIPA, Universitas Haluoleo, et al.
    Terbitan: (2009)
  • Pengaruh Ketebalan Lapisan Aktif terhadap Karakteristik Sel Surya Berbasis a-Si:H yang Ditumbuhkan dengan Teknik HWC-VHF-PECVD
    oleh: Ida Usman; Jurusan Fisika FMIPA, Universitas Haluoleo, et al.
    Terbitan: (2009)
  • Studi Optimasi Parameter Daya RF untuk Penumbuhan Lapisan Tipis Mikrokristal Silikon dengan Metode Hot Wire Cell PECVD
    oleh: Amiruddin, S.; Prodi Fisika, Jurusan PMIPA, FKIP, Universitas Nusa Cendana, Kupang, et al.
    Terbitan: (2013)
  • Fabrikasi Sel Surya lapisan tipis Silikon Germanium Amorf Terhidrogenasi (a-Sige:H) dengan teknik HWC-PECVD
    oleh: Mursal
    Terbitan: (2009)
© 2025 Perpustakaan Nasional Republik Indonesia
Loading...