Lokasi: Optimasi Parameter Tekanan Deposisi untuk Penumbuhan Lapisan Tipis Mikrokristal Silikon dengan Metode HWC PECVD

Main Authors:	Amiruddin Supu; Program Studi Fisika, Jurusan Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, FKIP, Universitas Nusa Cendana, I Wayan Sukarjita; Program Studi Fisika, Jurusan Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, FKIP, Universitas Nusa Cendana, Fakhruddin Fakhruddin; Program Studi Fisika, Jurusan Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, FKIP, Universitas Nusa Cendana, Fitri Suryani Arsyad; Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Sriwijaya, Toto Winata; Lab. Fisika Material Elektronik, Program Studi Fisika FMIPA - ITB, Sukirno Sukirno; Lab. Fisika Material Elektronik, Program Studi Fisika FMIPA - ITB
Format:	Article application/pdf eJournal
Bahasa:	eng
Terbitan:	Institut Teknologi Bandung , 2009
Subjects:	Conductivity Crystal orientation Hot Wire Cell PECVD and μc-Si:H
Online Access:	http://journal.fmipa.itb.ac.id/jms/article/view/201

Koleksi	Jurnal Matematika & Sains
Gedung	Perpustakaan Institut Teknologi Bandung
Institusi	Institut Teknologi Bandung
Kota	KOTA BANDUNG
Provinsi	JAWA BARAT
Kontak	Butuh informasi lebih lanjut? Hubungi pustakawan institusi ini.