Pengaruh Temperatur Penumbuhan Terhadap Karakteristik Magnetik Film Tipis TiO2:Co yang ditumbuhkan dengan Metode Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) - Horasdia Saragih; Laboratorium Fisika Material Elektronik, Institut Teknologi Bandung, Bandung, Indonesia, Jurusan Fisika, Universitas Pattimura, Ambon, Indonesia (Institut Teknologi Bandung, 2009)